Президент Российской академии наук Геннадий Красников в интервью ТАСС сообщил, что Россия разрабатывает литографический сканер на длине волны 193 нанометра для производства современных микрочипов. По его словам, устройство, способное создавать чипы с топологией 90 нанометров и ниже, может быть готово уже через два года.
«Мы в прошлом году получили сканер на 350 нанометров совместно с Белоруссией. Сейчас испытывается наш сканер на 248 нанометров. Идут работы над новым сканером на 193 нанометра, который позволит производить даже пятинанометровые микросхемы. Эта длина волны очень перспективна», — отметил Красников.
Литографические сканеры — ключевые устройства для создания микроэлектронных чипов. На мировом рынке лидирует нидерландская компания ASML, а также японские Canon и Nikon. Технология на 350 нанометров, несмотря на свою «несовременность», остаётся востребованной в автопроме, энергетике и телекоммуникациях. Переход к 193 нанометрам позволит России значительно сократить технологический разрыв в производстве чипов для передовых отраслей.
Разработка сканера на 193 нанометра — часть стратегии по импортозамещению и укреплению микроэлектронной независимости России. Успех проекта может открыть новые возможности для отечественной промышленности, включая производство высокопроизводительных процессоров и микросхем для ИИ, телекоммуникаций и оборонного сектора.
